IT — последние новости

Компания Intel доказала задержку глобального изготовления центральных микропроцессоров с использованием 10-нм технического процесса до 2-й половины 2017 года. Изготовитель микросхем заявляет, что в связи с проблемами в изучении свежих общепризнанных мерок изготовления ей придётся продлить срок жизни 14-нм техпроцесса для CPU ещё на год. Так что, в 2016 году Intel представит микропроцессоры Kaby Lake, а Cannonlake выйдут лишь в 2017-м. Руководство Intel назвало, что из-за усложнения изготовления микросхем известный законопроект Мура может подвергнуться модификации. Все-таки, в отличии от соперников, Intel не рассчитывает упрощать характеристики новой технологии изготовления, чтобы форсировать её выход на рынок. В компании убеждены, что её 10-нм технический процесс будет самым лучшим в промышленности.

Цикличность законопроекта Мура растет

Когда Гордон Мур (Gordon Moore) в первый раз сделал своё исследование об удвоении числа транзисторов в печатных платах в 1965 году, он заметил, что их число растет вдвое каждые 12 лет. В 1975 году он изменил своё исследование и сделал вывод, что количество транзисторов в микросхемах будет умножаться раз в пару лет. В заключительные несколько месяцев производственные технологии и накопленные модели стали так трудными, что это привело к удлинению циклов прохода от одного техпроцесса на другой. Следовательно, число транзисторов в чипсетах отныне умножается каждые 2 с половиной года либо намного реже. В итоге компания Intel по прецеденту обязана выполнять не 2, а 3 рода процессоров, применяя одинаковую технологию.

Схема Intel

«Заключительные 2 прохода на свежие технологии продемонстрировали, что протяженность цикла сегодня составляет около 2-ух с половиной лет», — заявил Брайан Кржанич (Brian Krzanich), директор Intel, в процессе поквартальной телеконференции компании с инвесторами и денежными специалистами. «В соответствии с данным, во 2-й половине 2016 года мы рассчитываем представить Kaby Lake, третья генерация наших 14-нм товаров, которые будут находиться на фундаменте архитектуры Skylake, однако иметь главные усовершенствования в мощности. Мы ждем, что это новшество в нашем многообещающем плане представит свежие возможности и повысит скорость вычислений, синхронно проложив маршрут для мягкого прохода на 10 hm».

Не все техпроцессы одинаковы

Intel собирается начать изготовление собственных микросхем под кодовым наименованием Cannonlake с применением 10-нм технологии изготовления только во 2-й половине 2017-го. Судя по информации неподтвержденных источников, компания «Самсунг» рассчитывает начать общее изготовление микросхем по технологии 10 hm в 2016 году. Так что, «Самсунг» может превзойти Intel в сфере изучения современных техпроцессов.

300-мм подложка с микросхемами Intel

На теоретическом уровне, отделение может представлять неприятность для Intel, так как не менее узкие нормы изготовления обозначают вероятность уменьшить потребление и повысить мощность. Впрочем микропроцессоры Intel не претендуют прямо с микропроцессорами Эпл A и «Самсунг» Exynos (как раз их «Самсунг» делает с применением ведущих технологий), устройства на основе Intel претендуют с такими на основе обозначенных чипов. Следовательно, при повышении репутации таких механизмов убавится известность электроники на базе продукции Intel.

Все-таки, стоит осознавать, что 10 hm — это только название технического процесса, показывающее на одну из его данных. Все производственные процессы Intel, в большинстве случаев, опережают подобные технологии прочих изготовителей полупроводников. Так, 14-нм и 16-нм FinFET технологии «Самсунг», GlobalFoundries и TSMC хотя и применяют сокращенные транзисторы, основываются на межблочных объединениях от 20-нм техпроцессов. Так что, объем микросхем, произведённых по технологиям 14LPE и CLN16FF, не различается от тех, что изготовлялись с применением менее идеальных действий, что не даёт возможности серьёзно повысить их транзисторный расчет сравнивая с предшественниками.

Сравнивая с технологиями производства микросхем прочих изготовителей полупроводников, свежие техпроцессы Intel всегда и по всем данным опережают собственных предшественников. Так, 14-нм процесс Intel не только лишь повышает частый потенциал и понижает потребление, но также и повышает насыщенность транзисторов, что даёт возможности встроить в микросхемы больше многофункциональных блоков.

Intel: Мы останемся руководителями в промышленности полупроводников!

Директор Intel отметил, что организация не пойдёт на применение различного рода хитростей, чтобы официально продекларировать переход на процесс 10 hm. Новая система производства понизит объемы как транзисторов, так и межблочных объединений, что максимизирует насыщенность частей, уменьшив стоимость микросхем в пересчёте на триод.

«Мы полагаем, если вы взгляните на масштабирование [10-hm техпроцесса по сравнению с 14-нм], то оно будет довольно серьёзным сравнивая с типическим при проходе от одного к процесса к другому», — заявил г-н Кржанич. «Я не дам вам четкие числа в настоящее время. Однако мы полагаем, что если соединить все [инновации, сопряженные с 10-нм технологией] совместно, наша ведущая позиция [в индустрии] не поменяется, даже в связи с отсрочкой [начала поставок микросхем]».

В производственном комплексе Intel

Глава Intel не стал открывать огромного числа компонентов о 10-нм техническом процессе, и четких причин задержки начала его использования. Все-таки, он намекнул, что новая система изготовления применяет «усовершенствованные» транзисторы с отвесно размещенным затвором (FinFET), и иммерсионную литографию с мультипаттернингом.  

«Любой [техпроцесс] имеет собственный рецепт проблем и проблем», — пояснил г-н Кржанич. «Неприятности с переходом с 14 hm на 10 hm считаются приблизительно аналогичным самым, что было с переходом с 22 hm на 14 hm. [Иммерсионная] фотолитография является всё не менее трудной в применении по мере понижения объемов частей микросхем. Число доступов при применении мультипаттернинга растет».

Intel: Мы выпустим миллиарды Cannonlake в первый год

Не является секретом, что процесс исхода на рынок микросхем Broadwell вытянулся намного лет, а начальные объёмы производства Core М (Broadwell) по технологии 14 hm были маленькими. В Intel гарантируют, что особый год сможет помочь её инженерам обработать 10-нм процесс для оперативного старта свежих микросхем Cannonlake в на самом деле общее изготовление.

«Во 2-й половине 2017 года мы начнём изготовление первых 10-нм микропроцессоров, знаменитых по кодовому наименованию Cannonlake», — заявил г-н Кржанич. «Когда мы сообщаем про вторую половину 2017 года, мы сообщаем о миллионах штук и огромных размерах».

300-мм подложка с микросхемами Intel

Intel: Курс «тик-так» ещё может прийти

В Intel рассказывают, что впрочем в настоящее время время применения одного технического процесса для производства процессоров вытянулось до 2-ух с половиной – трёх лет, организация попробует прийти к собственной модификации «тик-так», курс которой составляет около 2-ух лет. Вполне вероятно, что для возвращения «тик-так» понадобится переход на применение фотолитографии в основательном ультрафиолете (extreme ultraviolet lithography, EUV). Если технический процесс 10 hm будет применен 3 года, то к 2020 г. EUV-сканеры вполне могут стать экономически подходящими для изготовления микросхем по техпроцессу 7 hm.

Нужно отметить, что удлинение технических циклов также обозначает и удлинение микроархитектурных циклов: отныне одна основательная микроархитектура будет применяться для трёх поколений микропроцессоров на протяжении трёх лет. Как Intel рассчитывает повышать мощность в любом поколении и как существенным будет ускорение микропроцессоров ежегодно, продемонстрирует лишь время.